- [检测百科]分享：不同Si３N４ 相涂层坩埚中全熔多晶硅锭的制备及表征2021年08月26日 14:50
- 以αＧSi３N４ 和βＧSi３N４ 粉为原料,采用免烧结工艺在坩埚内壁上分别制备了αＧSi３N４ 涂层、βＧSi３N４ 涂层以及二者质量比为１∶１的复合涂层,然后在这些涂层坩埚中制备得到了多晶硅铸锭,观察了涂层和硅锭的表面形貌,测试了硅锭的表面粗糙度、晶粒大小以及红区长度.结果表明:αＧSi３N４ 涂层表面粗糙不平、起伏不均匀,对应硅锭的表面粗糙度和晶粒尺寸最大,
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- 摘 要:分别在超临界条件和普通条件下制备了镍基石墨烯复合电铸层,研究了两种制备条件 和氧化石墨烯(GO)质量浓度对复合电铸层显微组织、表面形貌、硬度和耐磨性能的影响.结果表 明:与普通条件下的相比,超临界条件下复合电铸层的显微组织致密,表面粗糙度低,镍(１１１)和 (２２０)晶面择优度降低而(２２０)晶面择
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