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[检测百科]分享:不同Si3N4 相涂层坩埚中全熔多晶硅锭的制备及表征
2021年11月04日 13:38
以αGSi3N4 和βGSi3N4 粉为原料,采用免烧结工艺在坩埚内壁上分别制备了αGSi3N4 涂 层、βGSi3N4 涂层以及二者质量比为1∶1的复合涂层,然后在这些涂层坩埚中制备得到了多晶硅铸 锭,观察了涂层和硅锭的表面形貌,测试了硅锭的表面粗糙度、晶粒大小以及红区长度.结果表明: αGSi3N4 涂层表面粗糙不平、起伏不均匀,对应硅锭的表面粗糙度和晶粒尺寸最大,
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